產(chǎn)品分類(lèi)
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹：
使用帶預(yù)熱的硫化物制備爐利用?化學(xué)氣相沉積法, 將固態(tài)硫源和鉬源在高溫下升華為氣態(tài)的過(guò)程, 通過(guò)改變保護(hù)氣體的比例來(lái)控制MoS2的結(jié)構(gòu)，制備MoS2薄膜。?此款帶預(yù)熱的硫化物制備爐前端配有預(yù)加熱器，輔助硫粉蒸發(fā)，后端為雙溫區(qū)硫化爐，可對(duì)爐管溫度實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)控溫。
詳情介紹：
使用帶預(yù)熱的硫化物制備爐利用化學(xué)氣相沉積法, 將固態(tài)硫源和鉬源在高溫下升華為氣態(tài)的過(guò)程, 通過(guò)改變保護(hù)氣體的比例來(lái)控制MoS2的結(jié)構(gòu)，制備MoS2薄膜。此款帶預(yù)熱的硫化物制備爐前端配有預(yù)加熱器，輔助硫粉蒸發(fā)，后端為雙溫區(qū)硫化爐，可對(duì)爐管溫度實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)控溫。
設(shè)備特點(diǎn)：
1、兩個(gè)獨(dú)立加熱溫區(qū)，可有效實(shí)現(xiàn)預(yù)熱和高溫
2、爐體可來(lái)回移動(dòng)，實(shí)現(xiàn)快速升溫和冷卻降溫
3、圖文界面，很容易學(xué)會(huì)操作，掌握使用
技術(shù)參數(shù)：
工作電壓：AC220/AC110V
工作頻率：50Hz/60hz
工作溫度：25℃～1100℃
測(cè)量精度：0.1℃
控溫精度：±1℃
加熱速率：建議10℃/min
控溫模式：可編程智能PID
曲線段數(shù)：30段
預(yù)存曲線：100條
預(yù)熱溫區(qū)：220mm
加熱溫區(qū)：220mm+220mm
數(shù)據(jù)接口：USB
爐管直徑：50mm
爐管長(zhǎng)度：1800mm
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